会社概要

ご挨拶

クリーン・テクノロジー株式会社は、1990年に創業した技術開発型企業です。
製品を開発するのではなく、お客様の望まれる商品を開発しお客様に満足していただくことが重要と考えています。

現在当社が携わっている液晶・半導体市場、フィルム市場のみならず、他の分野にも展開できる要素技術の開発に注力しております。
世界規模で大きな変革が起きている中で、当社も微力ながら技術の開発および商品の提供をもって社会の発展に貢献してまいります。

代表取締役社長　

社名	クリーン・テクノロジー株式会社
創業	1990年（平成2年）8月
資本金	8,000万円
代表者	代表取締役社長　西澤　和夫
事業内容	液晶業界向け製造装置およびフィルム塗工装置の開発・設計・製造・販売
所在地	〒940－0006　新潟県長岡市東高見1－4－4

本社・第1工場

敷地面積 4,978㎡(1536坪)
建物面積 2,384㎡(736坪)
工場面積 1,425㎡(440坪)
クレーン　4.8t 3基

第2工場

敷地面積 5,476㎡(1690坪)
建物面積 3,282㎡(1013坪)
工場面積 2,752㎡(850坪)
クレーン　15t 2基　　2.8t 2基

第3工場

敷地面積 16,200㎡(5000坪)
建物面積 5,670㎡(1750坪)
工場面積 4,892㎡(1510坪)
(135m×36m)
クレーン　15t 2基　　4.8t 2基

第3工場内部

会社沿革

1990年（平成2年） 8月	クリーン・テクノロジー株式会社設立現代表者西澤和夫が長岡市新産のインキュベートセンターに入居資本金580万円「超精密洗浄度合い評価装置」の開発に着手
1991年（平成3年） 10月	装置開発事業開始
1992年（平成4年） 7月	事業規模拡大に伴い長岡市高見町に工場移転
1993年（平成5年） 8月	UV（紫外線）洗浄装置の開発・販売開始
1995年（平成7年） 12月	資本金1,000万円に増資
2000年（平成12年） 9月	事業規模拡大に伴い長岡市の高見工業団地に新本社・工場（現在の所在地）を完成し移転
2002年（平成14年） 8月	資本金2,000万円に増資
2004年（平成16年） 3月	事業規模拡大に伴い本社・第1工場、事務開発棟増築
2004年（平成16年） 8月	第2工場新築
2005年（平成17年） 5月	資本金5,000万円に増資
2005年（平成17年） 11月	フィルム塗工装置の開発に着手
2006年（平成18年） 4月	経済産業省「元気なモノ作り中小企業300社」に選ばれる
2006年（平成18年） 6月	資本金8,000万円に増資
2007年（平成19年） 5月	現代表者西澤和夫が「藍綬褒章」を受章
2007年（平成19年） 11月	社団法人中小企業研究センター「グッドカンパニー大賞」の優秀企業賞を受賞
2008年（平成20年） 9月	事業規模拡大に伴い第3工場新築
2009年（平成21年） 4月	フィルム塗工装置 1号機を出荷開始
2012年（平成24年） 3月	LiB（リチウムイオンバッテリー）業界向けにフィルム塗工装置の量産機を出荷開始
2017年（平成29年） 1月	液晶パネル最大サイズとなる10.5世代装置の出荷を開始
2017年（平成29年）12月	経済産業省「2017 地域未来牽引企業」に選ばれる